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拋光操作是一項耗費時間和費用昂貴的工序，遵照一定的守則可以降低拋光操作的成本。拋光的每一個步驟都必須要保持清潔，這一點最重要。
化學拋光　化學拋光是讓材料在化學介質中表面微觀凸出的部分較凹部分優先溶解，從而得到平滑面。這種方法的主要優點是不需復雜設備，可以拋光形狀復雜的工件，可以同時拋光很多工件，效率高。化學拋光的核心問題是拋光液的配制。化學拋光得到的表面粗糙度一般為數10μm。
電解拋光　電解拋光基本原理與化學拋光相同，即靠選擇性的溶解材料表面微小凸出部分，使表面光滑。與化學拋光相比，可以消除陰極反應的影響，效果較好。
電化學拋光過程分為兩步：　（1）宏觀整平　溶解產物向電解液中擴散，材料表面幾何粗糙下降，Ra＞1μm。　（2）微光平整　陽極極化，表面光亮度提高，Ra＜1μm。
超聲波拋光　將工件放入磨料懸浮液中并一起置于超聲波場中，依靠超聲波的振蕩作用，使磨料在工件表面磨削拋光。超聲波加工宏觀力小，不會引起工件變形，但工裝制作和安裝較困難。超聲波加工可以與化學或電化學方法結合。在溶液腐蝕、電解的基礎上，再施加超聲波振動攪拌溶液，使工件表面溶解產物脫離，表面附近的腐蝕或電解質均勻；超聲波在液體中的空化作用還能夠抑制腐蝕過程，利于表面光亮化。a
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